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圖7：本實用新型蝕刻設(shè)備其一較佳實施例的擋液板結(jié)構(gòu)運作局部放大圖。圖8：本實用新型蝕刻設(shè)備其一較佳實施例的擋液板結(jié)構(gòu)結(jié)合風刀裝置示意圖。圖9：本實用新型蝕刻設(shè)備其一較佳實施例的宣泄孔的表面張力局部放大圖。圖10：本實用新型蝕刻設(shè)備其二較佳實施例的擋液板結(jié)構(gòu)結(jié)合風刀裝置示意圖。圖11：本實用新型蝕刻設(shè)備其三較佳實施例的擋液板結(jié)構(gòu)結(jié)合風刀裝置示意圖。圖12：本實用新型擋液板結(jié)構(gòu)其二較佳實施例的宣泄孔的表面張力局部放大圖。圖13：本實用新型蝕刻方法的步驟流程圖。圖號說明：傳統(tǒng)擋液板結(jié)構(gòu)a擋液板結(jié)構(gòu)b風刀c氣體本實用新型1蝕刻設(shè)備10擋液板結(jié)構(gòu)11***擋板12第二擋板121宣泄孔1211***壁面1...

ITO顯影劑也稱為造影劑或?qū)Ρ葎?，是一種X光無法穿透的藥劑，用于讓體內(nèi)組織在X光檢查時能看得更清楚。例如消化道攝影時，醫(yī)師會讓患者喝下一杯顯影劑溶液（大多含鋇），然后用各種角度照相，就能讓胃腸道看得很清楚。如果顯影只是在光強較大的地方產(chǎn)生游離銀，而對底片不做進一步處理，則把它一拿出暗室，未顯影的鹵化銀就會立刻曝光。此后，幾乎任何還原劑都將使底片完全形成灰霧。為了克服這個問題，必須找到一種適當?shù)奈镔|(zhì)以除去未還原的鹵化銀。黑白照相中較常用的定影液是硫代硫酸鈉溶液。其中的硫代硫酸根離子（S2O32-）與銀離子形成可溶于水的穩(wěn)定配合物，因而達到“固定”底片的目的。ITO顯影液的市場需求會隨著電子行業(yè)的...

伸縮桿12下端固定安裝有圓環(huán)塊13，圓環(huán)塊13與噴頭10之間固定連接有連接桿14，分隔板2與承載板3相互垂直設(shè)置，電解池4內(nèi)部底端的傾斜角度設(shè)計為5°，進液管8的形狀設(shè)計為l型，且進液管8貫穿分隔板2設(shè)置在進液漏斗6與伸縮管9之間，圓環(huán)塊13通過伸縮桿12活動安裝在噴頭10上方，且噴頭10通過伸縮管9活動安裝在電解池4上方，通過設(shè)置有伸縮管9與伸縮桿12，能夠在蝕刻液通過進液管8流入到電解池4中時，啟動液壓缸11帶動伸縮桿12向上移動，從而通過圓環(huán)塊13配合伸縮管9帶動噴頭10向上移動，進而將蝕刻液緩慢的由噴頭10噴入到電解池4中，避免蝕刻液對電解池4造成沖擊而影響其使用壽命，具有保護電解池4...

步驟一s1：設(shè)置一擋液板結(jié)構(gòu)10，其中該擋液板結(jié)構(gòu)10設(shè)置有復(fù)數(shù)個宣泄孔121；該擋液板結(jié)構(gòu)10包括有一***擋板11、一與該***擋板11接合的第二擋板12，以及一與該第二擋板12接合的第三擋板13，其中該第二擋板12具有復(fù)數(shù)個貫穿該第二擋板12且錯位設(shè)置的宣泄孔121，該復(fù)數(shù)個宣泄孔121呈千鳥排列的直通孔態(tài)樣，且位于同一列的宣泄孔121之間具有相同的距離，其中該宣泄孔121的孔徑a0比較好小于3mm，以使該宣泄孔121的孔洞內(nèi)產(chǎn)生毛細現(xiàn)象，若該第二擋板12的該上表面123有水滴出現(xiàn)時，則該水滴不至于經(jīng)由該宣泄孔121落至下表面122，但仍舊可以提供空氣宣泄的管道，以借由該宣泄孔121平衡...

本發(fā)明涉及一種用來在銅的存在下選擇性地蝕刻鈦的蝕刻液及使用該蝕刻液的蝕刻方法。背景技術(shù)：以往，在蝕刻鈦時一直使用含有氫氟酸或過氧化氫的蝕刻液。例如專利文獻1中提出了一種鈦的蝕刻液，該鈦的蝕刻液是用來在銅或鋁的存在下蝕刻鈦，并且該蝕刻液的特征在于：利用由10重量％至40重量％的過氧化氫、％至5重量％的磷酸、％至％的膦酸系化合物及氨所構(gòu)成的水溶液將pH值調(diào)整為7至9。但是，含有氫氟酸的蝕刻液存在毒性高的問題，含有過氧化氫的蝕刻液存在缺乏保存穩(wěn)定性的問題?，F(xiàn)有技術(shù)文獻專利文獻專利文獻1：日本特許第4471094號說明書。技術(shù)實現(xiàn)要素：發(fā)明所要解決的問題本發(fā)明是鑒于所述實際情況而成，其目的在于提供一種...

并利用水滴的表面張力現(xiàn)象防止水滴由該復(fù)數(shù)個宣泄孔121落下造成該基板20的蝕刻不均等異常現(xiàn)象，確實達到保有原始擋液板的擋液效果，以及增加透氣性以破除真空以減少因真空吸板而導(dǎo)致該基板20刮傷或破片風險等主要優(yōu)勢。該蝕刻設(shè)備1可進一步設(shè)置有一噴灑裝置50，該噴灑裝置50設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的一端部，且該基板20設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的下方約8毫米至15毫米之間，其中該噴灑裝置50用以噴灑一藥液51至該基板20上，以對該基板20進行一濕式蝕刻制程；由上述的說明，擋液板結(jié)構(gòu)10的設(shè)置即是為了避免噴灑裝置50的藥液51繼續(xù)對已經(jīng)完成蝕刻步驟的基板20再進行蝕刻制程，故仍舊會有少量的藥液51噴灑在擋液板...

ITO顯影劑也稱為造影劑或?qū)Ρ葎?，是一種X光無法穿透的藥劑，用于讓體內(nèi)組織在X光檢查時能看得更清楚。例如消化道攝影時，醫(yī)師會讓患者喝下一杯顯影劑溶液（大多含鋇），然后用各種角度照相，就能讓胃腸道看得很清楚。如果顯影只是在光強較大的地方產(chǎn)生游離銀，而對底片不做進一步處理，則把它一拿出暗室，未顯影的鹵化銀就會立刻曝光。此后，幾乎任何還原劑都將使底片完全形成灰霧。為了克服這個問題，必須找到一種適當?shù)奈镔|(zhì)以除去未還原的鹵化銀。黑白照相中較常用的定影液是硫代硫酸鈉溶液。其中的硫代硫酸根離子（S2O32-）與銀離子形成可溶于水的穩(wěn)定配合物，因而達到“固定”底片的目的。ITO顯影液的市場需求會隨著電子行業(yè)的...

負的值表示厚度減小。上述蝕刻液組合物以在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻上述氮化物膜為特征，上述氧化物膜推薦包含sio2，上述氮化物膜推薦包含sin。上述蝕刻液組合物用于3dnand閃存制造工序，能夠使上述氮化物膜去除工序中發(fā)生的副反應(yīng)氧化物的殘留和氧化物膜損傷不良問題**少化。本發(fā)明的蝕刻液組合物包含如上選擇的添加劑，在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻氮化物膜時，能夠使因副反應(yīng)氧化物的殘留時間變長而氮化物膜未被完全去除的不良(參照圖2)以及氮化物膜雖被完全去除但也造成氧化物膜損傷(damage)的工序不良(參照圖3)的發(fā)生**少化。因副反應(yīng)氧化物的殘留時間變長而氮化物膜未被完...

影響ITO堿性氯化銅蝕刻液蝕刻速率的因素：1、Cu2+離子濃度的影響：Cu2+是氧化劑，所以Cu2+的濃度是影響蝕刻速率的主要因素。研究銅濃度與蝕刻速率的關(guān)系表明：在0~82g/L時，蝕刻時間長；在82~120g/L時，蝕刻速率較低，且溶液控制困難；在135~165g/L時，蝕刻速率高且溶液穩(wěn)定；在165~225g/L時，溶液不穩(wěn)定，趨向于產(chǎn)生沉淀。2、氯化銨含量的影響：通過蝕刻再生的化學反應(yīng)可以看出：[Cu（NH3）2]+的再生需要有過量的NH3和NH4Cl存在，如果溶液中缺乏NH4Cl，大量的[Cu（NH3）2]+得不到再生，蝕刻速率就會降低，以致失去蝕刻能力。所以，氯化銨的含量對蝕刻速率...

引線框架的腐蝕是如何生產(chǎn)的呢？引線框架的材料主要是電子銅帶，常見在引線框架中通過亮鎳、錫和錫鉛鍍層下進行鍍鎳完成保護金屬材料的目的，在材質(zhì)過程中42合金引線相對來說容易發(fā)生應(yīng)力-腐蝕引發(fā)的裂紋。為了保障引線框架的優(yōu)異的導(dǎo)電性和散熱性，處理方式通過電鍍銀、片式電鍍線，將引線和基島表面作特殊處理，這樣能夠保障焊線和引線框架的良好焊接性能。引線框架電鍍銀蝕刻工藝流程主要分：上料-電解除油-活化-預(yù)鍍銅-預(yù)鍍銀-局部鍍銀-退銀-防銀膠擴散-防銅變色-烘干-收料。通過該蝕刻工藝流程能夠保障引線框架蝕刻過程中電鍍層的厚度、光亮度、粗糙度、潔凈度等。因此，蝕刻引線框架對工藝和工廠的管理需要嚴格控制。蝕刻不同...

本發(fā)明涉及銅蝕刻液技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種酸性銅蝕刻液的生產(chǎn)工藝。背景技術(shù)：高精細芯片和顯示集成電路主要采用銅制程，其光刻工藝中形成銅膜層結(jié)構(gòu)所需用的銅刻蝕液中主要的為過氧化氫系銅刻蝕液。過氧化氫系銅蝕刻液較其他銅刻蝕液體系(如三氯化鐵體系，過硫酸銨體系)具有不引人其他金屬離子在銅層表面或線路體系中，產(chǎn)物親和、友好、環(huán)境污染少，刻蝕效率高且使用壽命較長的特點。大部分過氧化氫系銅刻蝕液包括參與氧化的過氧化氫組分、參與溶解的無機酸/有機酸組分，以及部分銅緩蝕劑等各類添加三個部分。由于銅蝕刻液中各物質(zhì)的反應(yīng)為放熱反應(yīng)，體系中又含有過氧化氫在制備銅蝕刻液的生產(chǎn)過程中需要保證生產(chǎn)安全。技術(shù)實現(xiàn)要素：本發(fā)明...

本實用新型涉及一種鋁蝕刻液生產(chǎn)設(shè)備。背景技術(shù)：鋁蝕刻液生產(chǎn)設(shè)備主要包括混合罐、過濾器和儲存罐，將蝕刻液中的各組份在混合罐混合均勻，由過濾器濾去雜質(zhì)后投入儲存罐中暫存，然后分裝銷售。以往，鋁蝕刻液的分裝由人工操作，隨著自動化技術(shù)的興起，全自動灌裝線在鋁蝕刻液生產(chǎn)企業(yè)得到廣泛應(yīng)用，但是，我司的鋁蝕刻液生產(chǎn)車間面積較小，無法放置自動灌裝線，所以需要對現(xiàn)有的生產(chǎn)設(shè)備進行改造，以實現(xiàn)鋁蝕刻液的全自動灌裝。技術(shù)實現(xiàn)要素：本實用新型提出了一種鋁蝕刻液生產(chǎn)設(shè)備，以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。為達前述目的，本實用新型提供的技術(shù)方案如下：鋁蝕刻液生產(chǎn)設(shè)備，包括混合罐、過濾器、數(shù)個儲存罐、數(shù)輛液壓升降式拖車和地磅...

通過滑動蓋24上的凸塊在過濾部件9內(nèi)部頂端內(nèi)壁的滑槽進行滑動，將過濾板26插入過濾部件9內(nèi)部兩側(cè)的固定槽內(nèi)，收縮彈簧管25設(shè)置有四處，分別設(shè)置在兩滑動蓋24的內(nèi)側(cè)前面和后面，再通過收縮彈簧管25的彈力將滑動蓋24向內(nèi)活動，使過濾部件9內(nèi)部空間進行密封，有效的提高了裝置連接安裝的便利性。推薦的，連接構(gòu)件11設(shè)置有十四個，連接構(gòu)件11設(shè)置在攪拌倉23的底部，連接構(gòu)件11與攪拌倉23固定連接，連接構(gòu)件11能將裝置主體1內(nèi)部的兩個構(gòu)件進行連接并固定，且在將兩構(gòu)件進行連接或拆卸的時候，不需要使用任何工具就能完成安裝和拆卸工作，在將兩構(gòu)件的連接管放在連接構(gòu)件11的兩端，再通過連接管與連接構(gòu)件11內(nèi)側(cè)兩端的...

本發(fā)明涉及一種用來在銅的存在下選擇性地蝕刻鈦的蝕刻液及使用該蝕刻液的蝕刻方法。背景技術(shù)：以往，在蝕刻鈦時一直使用含有氫氟酸或過氧化氫的蝕刻液。例如專利文獻1中提出了一種鈦的蝕刻液，該鈦的蝕刻液是用來在銅或鋁的存在下蝕刻鈦，并且該蝕刻液的特征在于：利用由10重量％至40重量％的過氧化氫、％至5重量％的磷酸、％至％的膦酸系化合物及氨所構(gòu)成的水溶液將pH值調(diào)整為7至9。但是，含有氫氟酸的蝕刻液存在毒性高的問題，含有過氧化氫的蝕刻液存在缺乏保存穩(wěn)定性的問題?，F(xiàn)有技術(shù)文獻專利文獻專利文獻1：日本特許第4471094號說明書。技術(shù)實現(xiàn)要素：發(fā)明所要解決的問題本發(fā)明是鑒于所述實際情況而成，其目的在于提供一種...

etchingamount)的相互關(guān)系的圖表。具體實施方式本發(fā)明人確認了用于氮化物膜去除工序用蝕刻液組合物的具有防蝕能力的添加劑在滿足特定參數(shù)值時能夠使在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性去除氮化物膜且不損傷氧化物膜的效果極大化，從而完成了本發(fā)明。本發(fā)明包括選擇在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*將氮化物膜選擇性去除的能力優(yōu)異的添加劑的方法、由此選擇的添加劑、包含上述添加劑的蝕刻液組合物以及利用上述蝕刻液組合物的蝕刻方法。本發(fā)明中，蝕刻對象膜可以為氮化物膜，保護對象膜可以為氧化物膜。此外，本發(fā)明的上述添加劑可以為硅烷(silane)系偶聯(lián)劑。具體而言，本發(fā)明可以包含磷酸、添加劑和水，上述添加劑可...

可以充分的將蝕刻液中的亞銅離子電解轉(zhuǎn)化為金屬銅，起到循環(huán)電解蝕刻液的作用；裝置主體1左端表面靠近上端固定安裝有抽氣泵19，抽氣泵19下方設(shè)置有集氣箱21，集氣箱21與抽氣泵19之間連接有排氣管20，電解池4下端連接有二號排液管22，二號排液管22內(nèi)部上端設(shè)置有二號電磁閥23，裝置主體1內(nèi)部底端靠近左側(cè)設(shè)置有傾斜板24，裝置主體1前端表面靠近左上邊角位置設(shè)置有活動板25，分隔板2右端放置有蓄水箱26，蓄水箱26上端靠近右側(cè)連接有進水管27，回流管15下端連接有抽水管28，抽水管28內(nèi)部上端設(shè)置有三號電磁閥29，裝置主體1前端表面靠近右側(cè)安裝有控制面板30，傾斜板24的傾斜角度設(shè)計為10°，活動板...

鋁板面蝕刻用：酸、堿都行。（鋁板是兩性材料，既能與酸反應(yīng)，又能與堿反應(yīng)，所以腐蝕液有的用堿性材料腐蝕，有的用酸性材料腐蝕，一般情況下，以酸性材料腐蝕的為多，堿性材料可以洗白。下好料的鋁板用棗木碳研磨，去掉油膩、劃痕，磨出啞光表面。然后用絲網(wǎng)版印上紋樣，油墨型號為80-39、80-59、80-49等。這種耐腐蝕油墨細膩，印出的紋樣質(zhì)量高。印完紋樣后放進電爐內(nèi)烘干，然后用即時貼封住后面，用膠帶封邊，進入腐蝕工藝。鋁板的腐蝕液配方如下：三氯化鐵50%硫酸銅50%水適量，波美度15～20°之間，鋁板腐蝕時應(yīng)平放，在腐蝕的過程中紋樣上溢出赭紅色的滓渣，應(yīng)隨時用毛刷去掉，鋁面上冒出大量泡泡，滓渣隨泡泡浮起...

如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中宣泄孔的孔徑小于3毫米(millimeter，mm)。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中宣泄孔為千鳥排列或矩陣排列等其中的一種排列方式。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中宣泄孔為直通孔或斜錐孔等其中的一種態(tài)樣或兩者的混合。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中宣泄孔具有一***壁面，以及一第二壁面，且第二擋板具有一下表面，當宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時，***壁面與下表面的***夾角不同于第二壁面與下表面的第二夾角。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中當宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時，宣泄孔的上孔徑與下孔徑不相等。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中當宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時，宣泄孔的上孔徑小于下孔徑。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中當宣泄孔...

注入量精確調(diào)配裝置通過嵌入引流口2接入鹽酸裝罐7進行原料注入，工作人員通過負壓引流器21將鹽酸硝酸引向注入量控制容器18內(nèi)，通過觀察注入量控制容器18內(nèi)的注入量觀察刻度線19對注入量進行精確控制，當?shù)竭_設(shè)定的注入量時將限流銷20插入進行限流即可，很好的對注入量進行精確控制，提高了該裝置的制備純度。工作原理：首先，通過設(shè)置熱水流入漏斗9，工作人員可沿著熱水流入漏斗9將熱水緩緩倒入鹽酸內(nèi)，從而很好的減小了發(fā)生反應(yīng)的劇烈程度，很好的起到了保護作用。然后，通過設(shè)置加固支架10，加固支架10為連接在兩側(cè)底座支柱的三角結(jié)構(gòu)，利用三角結(jié)構(gòu)穩(wěn)定原理對裝置底座5起到了很好的加固效果。接著，通過設(shè)置防燙隔膜11，...

本發(fā)明涉及回收處理技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種廢銅蝕刻液的回收處理裝置。背景技術(shù)：廢銅蝕刻液含有可回收的金屬，所以需要進行回收處理，目前通用的做法是，使用化學方法回收廢液內(nèi)的銅，或提煉成硫酸銅產(chǎn)品，工藝落后，銅回收不徹底，處理的經(jīng)濟效益不明顯，有二次污染污染物排放，一旦處理不當往外排放，勢必對水體生態(tài)系統(tǒng)造成大的沖擊。市場上的廢銅蝕刻液的回收處理裝置只能簡單的對蝕刻液進行回收處理，不能對蝕刻液進行循環(huán)電解，使得剩余蝕刻液中的銅離子轉(zhuǎn)化不充分，而且蝕刻液導(dǎo)入到電解池中會對電解池造成沖擊，進而影響電解池的使用壽命，并且在回收處理中會產(chǎn)生有害氣體而影響空氣環(huán)境，也不能在回收結(jié)束后對裝置內(nèi)部進行清理，為此，我...

將hno3、四甲基氫氧化銨、h2o2分別投入對應(yīng)的原料罐，備用；第三步：根據(jù)混酸配制表算出各個原料的添加量，按照純水→亞氨基二乙酸→氫氟酸→hno3→四甲基氫氧化銨→乙醇酸的順序依次將原料加入調(diào)配罐，將上述混料充分攪拌，攪拌時間為3～5h；第四步：在第三步的混料中再添加h2o2，繼續(xù)攪拌混勻，攪拌時間為3～5h，用磁力泵將混合液通過過濾器循環(huán)過濾。作為推薦的技術(shù)方案，所述磁力泵出口壓力≤，過濾器入口壓力≤。根據(jù)制備銅蝕刻液的原料確定磁力泵的出口壓力和過濾器的入口壓力，包裝原料可以被充分過濾。作為推薦的技術(shù)方案，所述調(diào)配罐內(nèi)的溫度設(shè)定在30～35℃。調(diào)配罐的溫度不能超過35℃，由于過氧化氫的密度...

技術(shù)實現(xiàn)要素：本實用新型所解決的技術(shù)問題即在于提供一種擋液板結(jié)構(gòu)與以之制備的蝕刻設(shè)備，尤其是指一種適用于濕式蝕刻機的擋液排液功能且增加其透氣性以降低產(chǎn)品損耗的擋液板結(jié)構(gòu)與以之制備的蝕刻設(shè)備，主要借由具有復(fù)數(shù)個宣泄孔的擋液板結(jié)構(gòu)搭配風刀裝置的硬體設(shè)計，有效使風刀裝置吹出的氣體得以經(jīng)由宣泄孔宣泄，并利用水滴的表面張力現(xiàn)象防止水滴由宣泄孔落下造成基板顯影不均等異?，F(xiàn)象，確實達到保有原始擋液板的擋液效果，以及增加透氣性以破除真空以減少因真空吸板導(dǎo)致的基板刮傷或破片風險等主要優(yōu)勢。本實用新型所采用的技術(shù)手段如下所述。為了達到上述的實施目的，本實用新型提出一種擋液板結(jié)構(gòu)，適用于一濕式蝕刻機，擋液板結(jié)構(gòu)包括...

ITO顯影劑也稱為造影劑或?qū)Ρ葎且环NX光無法穿透的藥劑，用于讓體內(nèi)組織在X光檢查時能看得更清楚。例如消化道攝影時，醫(yī)師會讓患者喝下一杯顯影劑溶液（大多含鋇），然后用各種角度照相，就能讓胃腸道看得很清楚。如果顯影只是在光強較大的地方產(chǎn)生游離銀，而對底片不做進一步處理，則把它一拿出暗室，未顯影的鹵化銀就會立刻曝光。此后，幾乎任何還原劑都將使底片完全形成灰霧。為了克服這個問題，必須找到一種適當?shù)奈镔|(zhì)以除去未還原的鹵化銀。黑白照相中較常用的定影液是硫代硫酸鈉溶液。其中的硫代硫酸根離子（S2O32-）與銀離子形成可溶于水的穩(wěn)定配合物，因而達到“固定”底片的目的。ITO顯影液的市場需求會隨著電子行業(yè)的...

當該風刀裝置40的***風刀41與該第二風刀42為了減少該基板20上所殘留的藥液51而吹出該氣體43時，該氣體43碰到該擋液板結(jié)構(gòu)10后部分會往該復(fù)數(shù)個宣泄孔121流動，并朝向該第二擋板12的該上表面123宣泄而出，除了保有原有擋液板的防止該藥液51噴濺而造成的蝕刻不均現(xiàn)象，亦可達到以破真空的原理避免該氣體43在該基板20附近形成渦流而造成真空吸引問題；此外，為了避免由該噴灑裝置50噴灑而出的藥液51滴入該基板20上而造成蝕刻不均的問題，因此，該復(fù)數(shù)個宣泄孔121的孔徑a0必須要足夠小，例如：孔徑a0小于3mm，即可因毛細現(xiàn)象的作用，亦即該水滴于該宣泄孔121孔洞內(nèi)的夾角θ等于該水滴與該第二擋...

本發(fā)明涉及蝕刻液組合物及選擇添加于該蝕刻液組合物的硅烷系偶聯(lián)劑的方法。背景技術(shù)：參照圖1，可以確認3dnand閃存(flashmemory)制造工序中的一部分。3dnand閃存可以通過在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性去除氮化物膜的工序(wetremovalofnitride)來制造。在不損傷氧化物膜的同時將氮化物膜完全去除是這樣的氮化物膜去除工序(wetremovalofnitride)的**技術(shù)之一。一般而言，氮化物膜去除工序中所使用的蝕刻液組合物利用具有防蝕能力的添加劑以獲得在不損傷氧化物膜的同時*將氮化物膜完全去除的效果。但是，想要在不損傷氧化物膜的范圍內(nèi)將氮化物膜完全去除時，會使...

silane)系偶聯(lián)劑和水，上述硅烷系偶聯(lián)劑使上述硅烷系偶聯(lián)劑的反應(yīng)位點(activesite)的數(shù)量除以上述硅烷系偶聯(lián)劑的水解(hydrolysis)了的形態(tài)的分子量之后乘以。此外，提供一種選擇硅烷系偶聯(lián)劑的方法，其是選擇用于在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻上述氮化物膜的蝕刻液組合物的硅烷系偶聯(lián)劑的方法，其特征在于，選擇上述硅烷系偶聯(lián)劑的反應(yīng)位點(activesite)的數(shù)量除以上述硅烷系偶聯(lián)劑的水解(hydrolysis)了的形態(tài)的分子量之后乘以。發(fā)明效果本發(fā)明的蝕刻液組合物提供即使不進行另外的實驗確認也能夠選擇在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻氮化物膜的效果和防蝕能力優(yōu)...

目前的平面顯示裝置，尤其是有機電激發(fā)光顯示器，多使用鉻金屬作為導(dǎo)線的材料。但是因為鉻金屬的阻值高，因此研究者一直在尋求利用阻值較低的金屬作為導(dǎo)線的材料。以往曾經(jīng)有提議以銀作為平面顯示裝置的導(dǎo)線材料，但是因為無適當穩(wěn)定的蝕刻液組成物，所以并未有***的運用。近幾年為提高平面顯示裝置的效能，研究者仍專注于如何降低導(dǎo)線材料的電阻值。銀合金目前被視為適當?shù)膶?dǎo)線材料，因其阻值低于其他的金屬。此外，含銀量超過80％以上的銀合金，雖然阻值未若銀金屬一般低，但是其阻值遠低于鉻金屬。然而由于銀合金未具有適當?shù)奈g刻液，所以并沒有廣泛應(yīng)用于晶片或面板的黃光制程。發(fā)明人爰因于此，本于積極發(fā)明的精神，亟思一種可以解決上...

從蝕刻速度及安全性的觀點來看，推薦為40℃至70℃，更推薦為45℃至55℃。處理時間視對象物的表面狀態(tài)及形狀等而變化，通常為30秒至120秒左右。實施例然后，對本發(fā)明的實施例與比較例一起進行說明。此外，本發(fā)明并非限定于下述實施例而解釋。制備表1及表2所示的組成的各蝕刻液，在下述條件下進行蝕刻試驗及蝕刻液的穩(wěn)定性試驗。此外，表1及表2所示的組成的各蝕刻液中，剩余部分為離子交換水。另外，表1及表2所示的鹽酸的濃度為以氯化氫計的濃度。(蝕刻試驗)通過濺鍍法在樹脂上形成50nm的鈦膜，然后成膜200nm的銅膜，進而通過電鍍銅在該銅膜上形成圖案，將所得的基板用作試樣。使用銅的蝕刻液，將試樣的濺鍍銅膜溶解...

伸縮桿12下端固定安裝有圓環(huán)塊13，圓環(huán)塊13與噴頭10之間固定連接有連接桿14，分隔板2與承載板3相互垂直設(shè)置，電解池4內(nèi)部底端的傾斜角度設(shè)計為5°，進液管8的形狀設(shè)計為l型，且進液管8貫穿分隔板2設(shè)置在進液漏斗6與伸縮管9之間，圓環(huán)塊13通過伸縮桿12活動安裝在噴頭10上方，且噴頭10通過伸縮管9活動安裝在電解池4上方，通過設(shè)置有伸縮管9與伸縮桿12，能夠在蝕刻液通過進液管8流入到電解池4中時，啟動液壓缸11帶動伸縮桿12向上移動，從而通過圓環(huán)塊13配合伸縮管9帶動噴頭10向上移動，進而將蝕刻液緩慢的由噴頭10噴入到電解池4中，避免蝕刻液對電解池4造成沖擊而影響其使用壽命，具有保護電解池4...

ITO顯影劑也稱為造影劑或?qū)Ρ葎?，是一種X光無法穿透的藥劑，用于讓體內(nèi)組織在X光檢查時能看得更清楚。例如消化道攝影時，醫(yī)師會讓患者喝下一杯顯影劑溶液（大多含鋇），然后用各種角度照相，就能讓胃腸道看得很清楚。如果顯影只是在光強較大的地方產(chǎn)生游離銀，而對底片不做進一步處理，則把它一拿出暗室，未顯影的鹵化銀就會立刻曝光。此后，幾乎任何還原劑都將使底片完全形成灰霧。為了克服這個問題，必須找到一種適當?shù)奈镔|(zhì)以除去未還原的鹵化銀。黑白照相中較常用的定影液是硫代硫酸鈉溶液。其中的硫代硫酸根離子（S2O32-）與銀離子形成可溶于水的穩(wěn)定配合物，因而達到“固定”底片的目的。ITO顯影液的市場需求會隨著電子行業(yè)的...