Polos光刻機與德國Lab14集團、弗勞恩霍夫研究所等機構合作，推動光子集成與半導體封裝技術發(fā)展。例如，Quantum X align系統的高對準精度（100 nm）為光通信芯片提供可靠解決方案，彰顯德國精密制造與全球產業(yè)鏈整合的優(yōu)勢。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小，非常適合研究實驗室，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。多材料兼容：金屬 / 聚合物 / 陶瓷同步加工，微流控芯片集成傳感器一步成型。天津德國PSP-POLOS光刻機讓你隨意進行納米圖案化

可編程微流控芯片需要集成電路控制與流體通道，傳統工藝需多次掩模對準，良率only 30%。Polos 光刻機的多材料同步曝光技術，支持在同一塊基板上直接制備金屬電極與 PDMS 通道，將良率提升至 85%。某微系統實驗室利用該特性，開發(fā)出可實時切換流路的生化分析芯片，通過軟件輸入不同圖案，10 分鐘內即可完成從 DNA 擴增到蛋白質檢測的模塊切換。該成果應用于 POCT 設備，使現場快速檢測系統的體積縮小 60%，檢測時間縮短至傳統方法的 1/3。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小，非常適合研究實驗室，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。陜西德國POLOS光刻機MAX層厚可達到10微米光束引擎高速掃描：SPS POLOS μ單次寫入400 μm區(qū)域，壓電驅動提升掃描速度。

Polos光刻機與弗勞恩霍夫ILT的光束整形技術結合，可定制激光輪廓以優(yōu)化能量分布，減少材料蒸發(fā)和飛濺，提升金屬3D打印效率7。這種跨領域技術融合為工業(yè)級微納制造（如光學元件封裝）提供新思路，推動智能制造向高精度、低能耗方向發(fā)展Polos系列broad兼容AZ、SU-8等光刻膠，通過優(yōu)化曝光參數（如能量密度與聚焦深度）實現不同材料的高質量加工。例如，使用AZ5214E時，可調節(jié)光束強度以減少側壁粗糙度，提升微結構的功能性。這一特性使其在生物相容性器件（如仿生傳感器）中表現outstanding26。

在微流體研究領域，德國 Polos 光刻機系列憑借獨特優(yōu)勢脫穎而出。其無掩模激光光刻技術，打破傳統光刻的局限，無需掩模就能實現高精度圖案制作。這使得科研人員在構建微通道網絡時，可根據實驗需求自由設計，快速完成從圖紙到實體的轉化。?以藥物傳輸研究為例，利用 Polos 光刻機，能制造出尺寸precise、結構復雜的微通道，模擬人體環(huán)境，讓藥物在微小空間內可控流動，much提升藥物傳輸效率研究的準確性。同時，在細胞培養(yǎng)實驗中，該光刻機制作的微流體芯片，為細胞提供穩(wěn)定且適宜的生長環(huán)境，助力細胞生物學研究取得新突破。小空間大作為的 Polos 光刻機，正推動微流體研究不斷向前。光學超材料突破：光子晶體結構precise制造，賦能超透鏡與隱身技術研究。

德國 Polos 光刻機系列的一大突出優(yōu)勢，便是能夠輕松輸入任意圖案進行曝光。在科研工作中，創(chuàng)新的設計理念往往需要快速驗證，而 Polos 光刻機正滿足了這一需求。科研人員無需花費大量時間和成本制作掩模，只需將設計圖案導入系統，就能迅速開始光刻作業(yè)。? 在生物醫(yī)學工程領域，研究人員利用這一特性，快速制作出具有特殊結構的生物芯片，用于疾病診斷和藥物篩選。在材料科學研究中，可根據不同材料特性，定制獨特的圖案結構，探索材料的新性能。這種靈活的圖案輸入方式，remarkable縮短了科研周期，加速科研成果的產出，讓科研人員能夠將更多精力投入到創(chuàng)新研究中。低成本科研普惠：桌面化設計減少投入，無掩膜工藝降低中小型實驗室門檻。光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模

環(huán)保低能耗設計：固態(tài)光源能耗較傳統設備降低30%，符合綠色實驗室標準。天津德國PSP-POLOS光刻機讓你隨意進行納米圖案化

微流體芯片制造的core工具！Polos光刻機可加工80 μm直徑的開環(huán)諧振器和2 μm叉指電極，適用于傳感器與執(zhí)行器開發(fā)。結合雙光子聚合技術（如Nanoscribe的2PP工藝），用戶可擴展至3D微納結構打印，為微型機器人及光學超材料提供多維度解決方案37。其與Lab14集團的協同合作，進一步推動工業(yè)級光學封裝技術創(chuàng)新3。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小，非常適合研究實驗室，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。天津德國PSP-POLOS光刻機讓你隨意進行納米圖案化