填充密度定義為薄膜固體部分的體積與薄膜的總體積(包括空隙和微孔)之比。對(duì)于光學(xué)薄膜,填充密度通常為0.75~**部分為0.85~0.95,很少達(dá)到1.0。小于l的填充密度使所蒸發(fā)材料的折射率低于其塊料的折射率。在沉積過(guò)程中,每一層的厚度均由光學(xué)或石英晶體監(jiān)控。這兩種技術(shù)各有優(yōu)缺點(diǎn),這里不作討論。其共同點(diǎn)是材料蒸發(fā)時(shí)它們均在真空中使用,因而,折射率是蒸發(fā)材料在真空中的折射率,而不是暴露于潮濕空氣中的材料折射率。薄膜吸收的潮氣取代微孔和空隙,造成薄膜的折射率升高。由于薄膜的物理厚度保持不變,這種折射率升高伴有相應(yīng)的光學(xué)厚度的增加,反過(guò)來(lái)造成薄膜光譜特性向長(zhǎng)波方向的漂移。為了減小由膜層內(nèi)微孔的體積和數(shù)量所引起的這種光譜漂移,采用高能離子以將其動(dòng)量傳遞給正在蒸發(fā)的材料原子,從而**增加材料原子在基底表面處凝結(jié)期間的遷移率。 [3]常用的保護(hù)膜材料有一氧化硅、氟化鎂、二氧化硅、三氧化二鋁等。海門(mén)區(qū)名優(yōu)光學(xué)膜批量定制
光學(xué)功能膜是現(xiàn)代光學(xué)儀器和光電子器件的**組件,其通過(guò)薄層介質(zhì)實(shí)現(xiàn)光束調(diào)控 [1]。主要類(lèi)型包括偏振片和相位差補(bǔ)償膜,其中偏振片作為液晶顯示器中**昂貴的化學(xué)材料之一 [2]。該類(lèi)產(chǎn)品采用聚酯切片為基材,需滿足高透光率、低霧度等性能要求 [1],生產(chǎn)涉及高分子材料、膜加工、染料、膠粘劑、光學(xué)、機(jī)械設(shè)備和計(jì)算機(jī)自動(dòng)控制等復(fù)合技術(shù)領(lǐng)域 [2]。自20世紀(jì)30年代應(yīng)用以來(lái),該技術(shù)歷經(jīng)真空鍍膜設(shè)備革新與光電產(chǎn)業(yè)升級(jí),逐步形成由日本東麗、三菱樹(shù)脂、東洋紡,韓國(guó)SKC,美國(guó)3M等公司主導(dǎo)的高度壟斷市場(chǎng)格局 [1]。如皋放心選光學(xué)膜供應(yīng)商實(shí)際應(yīng)用的薄膜要比理想薄膜復(fù)雜得多。
光學(xué)功能膜由分層介質(zhì)構(gòu)成,通過(guò)界面?zhèn)鞑?shí)現(xiàn)光束調(diào)控,包括偏振片和相位差補(bǔ)償膜。其中偏振片通過(guò)選擇性透過(guò)特定偏振方向光波,相位差補(bǔ)償膜則用于修正光程差,二者是液晶顯示器實(shí)現(xiàn)顯像功能的關(guān)鍵組件 [1-2]。基礎(chǔ)研究階段(19世紀(jì)初-20世紀(jì)初)德國(guó)、美國(guó)科學(xué)家建立光學(xué)薄膜基礎(chǔ)理論體系,促成減反射膜等初期產(chǎn)品問(wèn)世 [1]。2.工業(yè)化應(yīng)用階段(20世紀(jì)30年代-90年代)真空鍍膜技術(shù)突破推動(dòng)產(chǎn)品實(shí)用化,逐步應(yīng)用于攝影鏡頭、顯微鏡等光學(xué)儀器 [1]。
濾光膜屬于光學(xué)薄膜的一種,其主要功能是過(guò)濾掉光譜中不需要的特定成分,常用于各類(lèi)濾光片制造 [1-2]。根據(jù)光譜波段可分為紫外、可見(jiàn)及紅外濾光膜;按光譜特性分為帶通、截止及分光型。帶通濾光膜允許選定波段的光通過(guò),截止型則分為短波通或長(zhǎng)波通。膜層材料上,硬膜濾光片多用于激光系統(tǒng),而軟膜則廣泛應(yīng)用于生化分析儀 [1]。作為光學(xué)膜技術(shù)的重要分支,濾光膜通過(guò)分層介質(zhì)結(jié)構(gòu)改變光波傳遞特性,廣泛應(yīng)用于精密光學(xué)設(shè)備、顯示器及電子產(chǎn)品中有時(shí)需要考慮一個(gè)光譜區(qū)域叫做寬帶分光膜;用于可見(jiàn)光的寬帶分光膜,又叫做中性分光膜。
金屬反射膜的優(yōu)點(diǎn)是制備工藝簡(jiǎn)單,工作的波長(zhǎng)范圍寬;缺點(diǎn)是光損大,反射率不可能很高。為了使金屬反射膜的反射率進(jìn)一步提高,可以在膜的外側(cè)加鍍幾層一定厚度的電介質(zhì)層,組成金屬電介質(zhì)反射膜。需要指出的是,金屬電介質(zhì)射膜增加了某一波長(zhǎng)(或者某一波區(qū))的反射率,卻破壞了金屬膜中性反射的特點(diǎn)。全電介質(zhì)反射膜是建立在多光束干涉基礎(chǔ)上的。與增透膜相反,在光學(xué)表面上鍍一層折射率高于基體材料的薄膜,就可以增加光學(xué)表面的反射率。**簡(jiǎn)單的多層反射是由高、低折射率的二種材料交替蒸鍍而成的,每層膜的光學(xué)厚度為某一波長(zhǎng)的四分一。在這種條件下,參加疊加的各界面上的反射光矢量,振動(dòng)方向相同。合成振幅隨著薄膜層數(shù)的增加而增加。特別在紫外區(qū),一般電介質(zhì)材料吸收都比較大的情況下,它的優(yōu)越性就更明顯了。江蘇國(guó)內(nèi)光學(xué)膜服務(wù)電話
金屬反射膜的優(yōu)點(diǎn)是制備工藝簡(jiǎn)單,工作的波長(zhǎng)范圍寬;缺點(diǎn)是光損耗大,反射率不可能很高。海門(mén)區(qū)名優(yōu)光學(xué)膜批量定制
在工藝上,人們還缺乏有效的手段實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜淀積參量的精確控制,這樣,薄膜的生長(zhǎng)就具有一定程度的隨機(jī)性,薄膜的光學(xué)常數(shù)、薄膜的厚度以及薄膜的性能也就具有一定程度的不穩(wěn)定性和盲目性,這一切都限制了光學(xué)薄膜質(zhì)量的提高。就光學(xué)薄膜本身來(lái)說(shuō),除了光學(xué)性能需要提高,吸收、散射等光損耗需要減少之外,它的機(jī)械強(qiáng)度、化學(xué)穩(wěn)定性和物理性質(zhì)都需要進(jìn)一步改進(jìn)。在激光系統(tǒng)中,光學(xué)薄膜的抗激光強(qiáng)度較低,這是光學(xué)薄膜研究中**重要的問(wèn)題之一。下面介紹幾種常用的光學(xué)薄膜元件。海門(mén)區(qū)名優(yōu)光學(xué)膜批量定制
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